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刘鹏

职称:工程师

研究所:微纳电子学研究院

研究领域:微纳结构制造技术

办公电话:86-10-62752674

电子邮件:pengliu@pku.edu.cn

个人主页:

科研/教育经历

刘鹏,男,1981年出生,硕士。2007年起,专业从事微电子加工工艺研究,主要研究方向是基于电子束光刻工艺的纳尺度图形化技术,和基于高密度等离子体干法刻蚀工艺的纳尺度图形转移技术。


研究成果概况

主要研究成果:开发大高宽比纳米结构无硬掩膜制造技术,成功获得AR>50的6.8nm单晶硅结构,向业界展示了硅基微电子工艺在小尺寸器件研究中的应用能力,为7nm节点下的新器件研究项目提供先导性技术支撑,获IEEE MEMS 2015最佳论文提名;提出基于MEMS技术的电子散射控制方法和束斑调制技术,并基于这一成果提出高精度电子束束斑检测方法,获得国际专利授权;基于光刻胶双重感光特性,提出适用于电子束光刻工艺的紫外固化技术,将显影选择比提高一个量级,成功实现三维纳米形貌控制,拓展了电子束光刻工艺的应用范围,获得专利授权

承担科研项目:纳米加工基础工艺研究重点基金项目,基于电子束光刻的纳机电系统结构工艺方法研究NSFC重大研究计划等。同时,负责纳米加工平台开放服务,为科研项目优化并加工验证器件,典型特征尺寸达到10nm量级。